Krémová pleťová maska 345 Relief
Dopřejte své pleti okamžitou úlevu a intenzivní péči v jednom kroku. Krémová pleťová maska 345 Relief kombinuje účinné zklidňující, vyživující a regenerační složky, které pomáhají redukovat nedokonalosti, zklidňují podráždění a podporují obnovu pokožky. Díky vysoce přilnavé veganské textilii se aktivní látky efektivně vstřebávají a působí hluboko v pleti.
- Zklidňující krémová plátýnková maska pro citlivou a problematickou pleť
- 30 % tea tree vody pro redukci nedokonalostí
- Centella Asiatica pro podporu regenerace a obnovy
- Kombinace aktivních složek pro komplexní péči - 3 složky pro redukci nedokonalostí, 4 vyživující látky a 5 zklidňujících ingrediencí
- Hloubkové vstřebávání díky veganské celulózové textilii
- Hydratuje a posiluje ochrannou bariéru pleti
- Vhodná i pro citlivou a podrážděnou pleť
Naneste na čistou a tonizovanou pleť. Nechte působit 10-15 minut, poté masku odstraňte a zbylou esenci vklepejte do pleti pro úplné vstřebání.
Water (Aqua), Melaleuca Alternifolia (Tea Tree) Leaf Water, Methylpropanediol, 1,2-Hexanediol, Butylene Glycol, Glycerin, Niacinamide, Octyldodeceth-16, Triethylhexanoin, Caprylic/Capric Triglyceride, Pentylene Glycol, Carbomer, Hydroxyethylcellulose, Tromethamine, Allantoin, Trehalose, Caprylyl Glycol, Ethylhexylglycerin, Dipotassium Glycyrrhizate, Disodium EDTA, Panthenol, Glycine Soja (Soybean) Seed Extract, Sodium Hyaluronate, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Pantothenic Acid, Centella Asiatica Leaf Water, Cyclodextrin, Centella Asiatica Extract, Hydrogenated Lecithin, Madecassoside, Ceramide NP, Cholesterol, Camellia Sinensis Leaf Water, Resveratrol, Beta-Glucan, Sodium DNA, Nelumbo Nucifera Leaf Extract.
Dr.Althea
16, Wausan-ro 29 da-gil, Mapo-gu, Seoul, Republic of Korea 04053