Tenzero
Pleťová maska Solution Cica
Cica? To je antioxidant určený k boji proti fotostárnutí a obnově struktury kolagenových a elastinových vláken. Stimuluje tvorbu kolagenu a kyseliny hyaluronové. Přítomná kyselina salicylová kontroluje tvorbu kožního mazu a zároveň jemně odlupuje odumřelé kožní buňky.
Naneste masku na čistý obličej po dobu 15 až 20 minut, poté ji sundejte. Nabídněte jemné doteky, dokud se vůně důkladně.
Water, Glycerin, Propylene Glycol, Phenoxyethanol, PEG-60 Hydrogenated Castor Oil, Triethanolamine, Hydroxyethylcellulose, Sodium Nitrate, Glyoxal, Dipropylene Glycol, Gluconolactone, Salicylic Acid, Lactic Acid, Butylene Glycol, Centella Asiatica Root Extract, Centella Asiatica Leaf Extract, Centella Asiatica Extract, Madecassoside, Madecassic Acid, Acetyl Hexapeptide-8, Asiaticoside, Asiatic Acid, Disodium EDTA, Carbomer, Phenoxyethanol, Methylparaben, 1,2-Hexanediol, Fragrance
TradegatetoEurope S.L.,
Calle de Albasanz 79 Nave 6 28037